服務(wù)熱線(xiàn)
0731-84284278
儀器中文名稱(chēng):脈沖激光沉積系統(tǒng)
儀器所在城市: 長(zhǎng)沙市
儀器型號(hào)規(guī)格: PLD-5000
生產(chǎn)廠商: 美國(guó)PVD公司
國(guó)別: 美國(guó)
購(gòu)置日期(年): 2009-11-1
使用日期(年): 2009-12-1
主要技術(shù)指標(biāo): 真空度可達(dá)10-4Pa；基片加熱溫度可達(dá)800℃；基片和靶材可自轉(zhuǎn)；四靶位；配備等離子槍
主要附件及功能: 該設(shè)備可用于制備5英寸以?xún)?nèi)各種大面積單層及多層薄膜材料，特別適用制備多組分的電子信息等功能薄膜材料。
本單位該儀器主要應(yīng)用領(lǐng)域：材料
儀器負(fù)責(zé)人: 肖燕
電話(huà): 18975134808
E-mail: accexp@gmail.com
檢測(cè)項(xiàng)目： 制備5英寸以?xún)?nèi)各種單層及多層薄膜材料，特別適用制備多組分的電子信息等功能薄膜材料。
收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)： 面議