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布魯克Bruker JVX7300F-C 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x

名稱(chēng):其他儀器與工具

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簡(jiǎn)介:布魯克Bruker JVX7300F-C 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x是定位和量化TXRF微量金屬污染的半導(dǎo)體儀器。布魯克Bruker JVX7300F-C 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x是最新的力量TXRF光譜儀,為全晶片提供快速、非破壞性,內(nèi)聯(lián)和完全自動(dòng)化測(cè)量微量金屬,...

  • 產(chǎn)品介紹
布魯克Bruker JVX7300F-C 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x是定位和量化TXRF微量金屬污染的半導(dǎo)體儀器。布魯克Bruker JVX7300F-C 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x是最新的力量TXRF光譜儀,為全晶片提供快速、非破壞性,內(nèi)聯(lián)和完全自動(dòng)化測(cè)量微量金屬,使污染控制在設(shè)備處理。布魯克Bruker JVX7300F-C 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x符合半標(biāo)準(zhǔn),帶有JV-TXRF軟件包,是最新的TXRF技術(shù)和儀器創(chuàng)新。
布魯克Bruker JVX7300F-C 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x的TXRF技術(shù)給晶圓廠(chǎng)的完全自動(dòng)化解決方案監(jiān)測(cè)微量金屬污染,同時(shí)保持空間信息在晶片表面。測(cè)量表面敏感,無(wú)損,完全自動(dòng)化,不需要化學(xué)危險(xiǎn)品的使用。JVX7300F-C給用戶(hù)增加了測(cè)量的選擇與配方可定義晶片對(duì)齊方法,提高吞吐量和測(cè)量硅和其他晶片基板的靈活性。JVX7300F-C提供了一個(gè)可定制的平臺(tái)3同時(shí)配置、單色、光學(xué)路徑。使用三種不同的激勵(lì)源保證最好的敏感性組在每個(gè)元素周期表。JVX7300F-C還配備了最新的硅漂移探測(cè)器,提供優(yōu)秀的能量分辨率和背景的最終微量金屬的敏感性最低。
快速映射TXRF,整片地圖的快速映射TXRF給污染物的數(shù)量和他們的位置信息在晶片表面。這個(gè)信息是故障診斷的關(guān)鍵微量金屬遠(yuǎn)足和監(jiān)測(cè)微量金屬含量在工廠(chǎng)中的每個(gè)流程步驟。零邊緣排除,JVX7300F-C提供映射能力為零毫米邊緣排除。晶片邊緣TXRF測(cè)量為工程師提供了極有價(jià)值的信息,在微量金屬含量的關(guān)鍵區(qū)域的晶片,這是容易通過(guò)foup和邊緣觸手交叉污染。
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